Требования к покрытиям

Покрытие должно быть сплошным, однородного цвета, без частиц нерасплавленного металла, без трещин, отслоений (вздутий). Шероховатость покрытия не более 80… 100 мкм. Покрытие должно быть прочно сцеплено с основным металлом и не отслаиваться при испытании методом нанесения сетки царапин. Пористость покрытия не более 20%. Контроль пористости покрытий, прочности сцепления проводят по ГОСТ 9.304−87 [29].

Ионно-плазменное напыление

Метод основан на распылении материала мишени ионами тлеющего разряда, возникающего при подаче постоянного напряжения между катодом-мишенью и анодом, постоянным током и токами высокой частоты.

Распыляемый материал катода в плазме высокочастотного магнетронного разряда выполнен из гидроксилапатита.

Импульсно-пучковый метод

Импульсно-пучковый метод осаждения тонких кальцийфосфатных пленок основан па сверхбыстром (единицы-десятки микросекунд) осаждении на подложку плотной высокотемпературной (до 4000…5000 К) абляционной плазмы, создаваемой при воздействии импульсов на мишень из гидроксилапатита. Сверхбыстрое нагревание мишени таким пучком создает условия неравновесное™ при формировании плазмы и осаждении пленок, что ведет к конгруэнтному осаждению.

Данный метод обладает уже доказанным технологическим потенциалом для синтеза высококачественных тонких пленок различного функционального назначения из металлических материалов с физическим темпом осаждения до 0,5 мкм за импульс, что на два-три порядка превосходит скорости осаждения всех известных способов.