Литература.
Высокоресурсный электродуговой плазматрон постоянного тока
Коротеев А. С., Миронов В. М., Свирчук Ю. С., Плазмотроны: конструкции, характеристики, расчёт.- М.: Машиностроение, 1993, с. 43. Riaby V.A., Lee H.J., Savinov V.P., Kremen' A.I., Mok Y.S., DC arc plasmatron device, Korean Patent No. KR10−721 790, Int. Class6 H05H 1/00, filed 01.02.2005, registered 18.05.2007. Ясько О. И. и др., Электродуговой плазмохимический реактор, а.с. СССР № 544 329 кл… Читать ещё >
Литература. Высокоресурсный электродуговой плазматрон постоянного тока (реферат, курсовая, диплом, контрольная)
1. Riaby V.A., Kim J.H., Mok Y.S., Choi C.K., Plaksin V.Yu., Lee H.J., Development of a high-durability atmospheric DC arc plasmatron, Proc. Intern. Symp. on dry processing (Cheju, Republ. of Korea, Nov. 2005). — Tokyo: Inst. Electr. Engineers of Japan, 2005, pp. 359−360.
2. H.J.Lee, V.Yu.Plaksin, V.A.Riaby, The volt-ampere characteristics of a DC arc plasmatron with a distributed anode spot, Thin Solid Films, 2007, v. 515, pp. 5197−5201.
3. Plaksin V.Yu., Kim J.H., Mok Y.S., Lee H.J., Riaby V.A., Reduction of NOx content in Diesel engine emission using plasmatron fuel converter, Proc. VI Korea-China Workshop on Clean Energy Technol. (Busan, Rep. of Korea, July 2006).- Seoul: Korean Inst. Chem. Engs, 2006, pp. 198−209.
4. Riaby V.A., Plaksin V.Yu., Kim J.H., Mok Y.S., Lee H.J., Choi C.K., Application of a high-durability DC arc pasmatron to plasma chemical processing of silicon substrates, Journal of the Korean Physical Society, 2006, v.48, No.6, pp. 1696−1701.
5. Сурис А. Л. Плазмохимические Процессы и Аппараты.- Москва: Химия, 1989. — 304 сс.
6. Физика, техника и применение низкотемпературной плазмы (Труды 4-й Всесоюзн. конф. по физике и генераторам низкотемпературной плазмы).- Алма-Ата: Издание Казахского политехнич. института, 1970. 754 сс.
7. Zhou X., Heberlein J., An experimental investigation of factors affecting arc-cathode erosion, J. Phys. D: 1998, v. 31, pp. 2577−2590.
8. Райзер Ю. П. Физика газового разряда: Учебное рук-ство.- Москва: Наука, 1987. 592 сс.
9. Дудников Ю. С. и др., Газофазный дуговой реактор, а.с. СССР № 216 641 кл. B01J 19/08, 26.10.1965.
10. Ясько О. И. и др., Электродуговой плазмохимический реактор, а.с. СССР № 544 329 кл. B01J 19/08, 11.11.1968.
11. Коротеев А. С., Миронов В. М., Свирчук Ю. С., Плазмотроны: конструкции, характеристики, расчёт.- М.: Машиностроение, 1993, с. 43.
12. Riaby V.A., Lee H.J., Savinov V.P., Kremen' A.I., Mok Y.S., DC arc plasmatron device, Korean Patent No. KR10−721 790, Int. Class6 H05H 1/00, filed 01.02.2005, registered 18.05.2007.